法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01J 23/22 授权公告日:20170301 终止日期:20180401 申请日:20150401
专利权的终止
2017-03-01
授权
授权
2017-03-01
授权
授权
2015-09-02
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J23/22 申请日:20150401
实质审查的生效
2015-09-02
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 23/22 申请日:20150401
实质审查的生效
2015-08-05
公开
公开
2015-08-05
公开
公开
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机译: 新型间苯二甲酰钌络合物插层的N,S掺杂二氧化钛撑柱蒙脱石,一种用于各种光驱动氧化还原反应的多功能光催化剂
机译: 具有在相邻的石墨层之间插入一种或多种金属化合物的石墨插层化合物的制备方法
机译: 一种功能化可膨胀石墨插层化合物的制备方法