公开/公告号CN1221686C
专利类型发明授权
公开/公告日2005-10-05
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院力学研究所;
申请/专利号CN02160209.3
申请日2002-12-31
分类号C25D11/08;C25D11/36;
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人王凤华
地址 100080 北京市海淀区中关村路15号
入库时间 2022-08-23 08:58:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-03-03
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2005-10-05
授权
授权
2004-09-29
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-07-21
公开
公开
机译: 耐等离子体的电子束沉积陶瓷涂层构件及其制造装置,由于陶瓷顶部涂层的形成是在使用陶瓷膜的陶瓷涂层上形成的,因此能够提高陶瓷材料的顶部涂层部分的沉积效率
机译: 在金属上电解沉积陶瓷涂层的方法,用于这种电解陶瓷涂覆方法的电解质和金属构件
机译: 在金属上电解沉积陶瓷涂层的方法,用于这种电解陶瓷涂覆方法的电解质和金属构件