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用于永磁体的制造方法、造型系统和永磁体

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本发明涉及用于永磁体的制造方法、造型系统和永磁体。描述的是一种用于制造永磁体的方法，其中所述方法包括通过隔离部（107、207）把模具体积隔离为第一隔室（109、209）和第二隔室（111、211）；将第一材料（119、219）填充到第一隔室（109、209）中；将第二材料（121、221）填充到第二隔室（111、211）中；压实第一材料和第二材料，其中隔离部被成形为使得第一隔室的形状对应于磁体的目标形状。

著录项

公开/公告号CN103157794B

专利类型发明专利
公开/公告日2016-12-21

原文格式PDF
申请/专利权人西门子公司;
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申请/专利号CN201210537415.3
发明设计人 A.C.厄达;
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申请日2012-12-13
分类号B22F3/16(20060101);H01F41/02(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人胡莉莉;李浩
地址德国慕尼黑
入库时间 2022-08-23 09:49:41

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-08-13

专利权的转移 IPC(主分类):B22F 3/16 登记生效日:20190724 变更前: 变更后: 申请日:20121213

专利申请权、专利权的转移
2016-12-21

授权

授权
2016-12-21

授权

授权
2014-11-19

实质审查的生效 IPC(主分类):B22F3/16 申请日:20121213

实质审查的生效
2014-11-19

实质审查的生效 IPC(主分类):B22F 3/16 申请日:20121213

实质审查的生效
2013-06-19

公开

公开
2013-06-19

公开

公开

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