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公开/公告号CN103762882B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-01-04
原文格式PDF
申请/专利权人 西安理工大学;
申请/专利号CN201410027303.2
发明设计人 陈桂涛;杨欣然;孙强;黄西平;孙向东;
申请日2014-01-21
分类号H02M9/02(20060101);C25D11/02(20060101);
代理机构61214 西安弘理专利事务所;
代理人李娜
地址 710048 陕西省西安市金花南路5号
入库时间 2022-08-23 09:49:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-04
授权
2014-06-04
实质审查的生效 IPC(主分类):H02M 9/02 申请日:20140121
实质审查的生效
2014-04-30
公开
机译: 使用等离子体电解氧化对镁材料进行表面处理的方法,由此在镁上形成的阳极膜以及用于等离子体电解氧化的镁材料的表面处理溶液
机译: 镁合金产品的等离子等离子体电解氧化表面处理方法
机译: 等离子体电解氧化牙科植入物的表面处理方法
机译:脉冲参数对脉冲直流等离子体电解氧化制备铝合金陶瓷氧化物涂层组织的影响
机译:碱性硅酸盐电解质中铝上阳极膜的阴极脉冲击穿-了解阴极半循环在AC等离子体电解氧化中的作用
机译:通过使用脉冲单极电源的等离子体电解氧化得到316L奥氏体钢上的氧化铝陶瓷涂层
机译:脉冲电流对等离子体电解氧化的影响
机译:从液体前体溶液等离子体合成用于固体氧化物燃料电池电解质的氧化铈基粉末。
机译:铝酸铝电解质6061 al合金上等离子体电解氧化涂层的磨损和耐腐蚀性
机译:碱性硅酸盐电解质中铝上阳极膜的阴极脉冲击穿:了解阴极半循环在交流等离子体电解氧化中的作用
机译:电解槽应用于三维非对称体(适用于飞机IC)的研究