法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-02
授权
授权
2015-01-14
实质审查的生效 IPC(主分类):B65D 23/02 申请日:20130116
实质审查的生效
2014-12-24
公开
公开
机译: 使用大颗粒减少涂层的等离子体源以及使用大颗粒减少涂层的等离子体源进行薄膜涂层和表面改性的方法
机译: 使用大颗粒还原涂层的等离子体源和使用带有大颗粒还原涂层的等离子体源进行薄膜涂层和表面改性的方法
机译: 利用宏观颗粒还原涂层的等离子体源和使用宏颗粒还原涂层的等离子体源进行薄膜涂层的薄膜涂层和表面改性