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用于光刻机器群集的网络架构和协议

摘要

一种包含一个或多个光刻元件的群集式基板处理系统,每一光刻元件配置成依据图案数据独立曝光基板。每一光刻元件包含多个光刻子系统和控制网络,控制网络配置成在光刻子系统与至少一个元件控制单元之间传送控制信息,元件控制单元配置成向光刻子系统发送命令,光刻子系统配置成向元件控制单元发送响应。每一光刻元件还包含群集前端以作为面向操作者或主控系统的接口,前端配置成用于配发控制信息给至少一个元件控制单元以控制一个或多个光刻子系统对一个或多个晶圆的曝光的操作。前端配置成用于配发处理程序给元件控制单元,处理程序包含一组预定的命令和相关参数,每一命令对应于将被一个或多个光刻子系统执行的预定动作或一连串动作,且参数进一步定义动作或一连串动作如何被执行。

著录项

  • 公开/公告号CN103649836B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 迈普尔平版印刷IP有限公司;

    申请/专利号CN201280030773.3

  • 发明设计人 M.N.J.范科温克;G.德博尔;

    申请日2012-04-23

  • 分类号G03F7/20(20060101);H01J37/317(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人李国华

  • 地址 荷兰代夫特

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-21

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20190430 变更前: 变更后: 申请日:20120423

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-09-28

    授权

    授权

  • 2016-09-28

    授权

    授权

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20120423

    实质审查的生效

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120423

    实质审查的生效

  • 2014-03-19

    公开

    公开

  • 2014-03-19

    公开

    公开

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