一种混合反馈式先进过程控制系统

摘要

本发明涉及一种混合反馈式先进过程控制系统，包括测量SEM关键尺寸的扫描电子显微镜模块，所述扫描电子显微镜模块将测量得到的SEM关键尺寸数据与曝光能量建立反馈关联，对曝光能量进行监控，其特征在于，所述系统还包括测量光学关键尺寸的光学模块，所述光学模块通过将收集的光学关键尺寸数据与所述SEM关键尺寸数据建立关联，进而与所述曝光能量建立反馈关联，对非关键工艺层的曝光能量进行监控，以降低所述扫描电子显微镜关键尺寸模块负载，提高产能。在本发明中通过将测量关键尺寸的光学模块（OCD）引入所述混合反馈式先进过程控制系统中，解决了现有技术中采用CDSEM量产低、耗时长、成本低的瓶颈，使工艺更加稳定。