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公开/公告号CN218505156U
专利类型实用新型
公开/公告日2023-02-21
原文格式PDF
申请/专利权人 上海恩捷新材料科技有限公司;
申请/专利号CN202222850065.8
发明设计人 庄志;刘连静;熊磊;石广钦;舒雨芳;刘倩倩;蔡裕宏;程跃;
申请日2022-10-27
分类号B29C48/00;B29C48/08;B29C48/88;B29C48/355;B29C48/92;B29L31/14;
代理机构上海远同律师事务所;
代理人张翠芳
地址 201306 上海市浦东新区南芦公路155号
入库时间 2023-03-15 01:27:19
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-02-21
授权
实用新型专利权授予
机译: 旋转板式光阑孔径设置设备,也可以使用相同孔径孔径摄影设备的光阑-快门设备同时作为快门叶片来使用的孔径设置设备
机译: 一种制备用于电子束的偏转孔径矩阵的方法-曝光装置,湿法蚀刻工艺以及-用于制造孔径矩阵和电子束的设备-具有该孔径矩阵的照明装置
机译: 一种生产waermebestaigengen和机械强度高的硅胶颗粒的方法,特别是与maes强度相等,孔径小
机译:冷轧可控制地缩小商业氟塑料微滤膜的孔径和孔径分布
机译:中空纤维滤膜表面孔径和孔径分布的测定方法综述
机译:晚期新闻海报:优化高孔径比 - 触摸屏显示的高孔径边缘场 - 开关抗压特性
机译:通过使用催化原子层沉积减小介孔二氧化硅膜孔径来制备的微孔二氧化硅膜的合成和表征。
机译:通过在膜基质中蚀刻SiO2纳米颗粒制备具有窄且均匀的孔径分布的超滤膜(UF)膜
机译:一系列超滤膜的制备及其孔径的测量
机译:在单孔径望远镜上使用旋转子孔径零件获得小的内部工作角度