公开/公告号CN217883934U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-11-22
原文格式PDF
申请/专利权人 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所;
申请/专利号CN202221703673.X
申请日2022-07-01
分类号H05H1/46(2006.01);
代理机构广东众达律师事务所 44431;
代理人张雪华
地址 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区总部二路2号光大数字家庭(推广名:光大we谷)一区1栋1号楼1316号房
入库时间 2022-12-29 17:34:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-22
授权
实用新型专利权授予
技术领域
本发明涉及一种ECR源,尤指一种ECR负氢离子源。
背景技术
电子回旋共振离子源(ECR-ElectronCyclotronResonance)是微波源,一般分为高电荷态高频ECR源和单电荷态强流2.45GHzECR源。中、高电荷态的产生通过高能电子与粒子的非弹性碰撞获得,电子在绕磁力线回旋运动时从微波场中获得能量。因此,为获得高能电子,高电荷态ECR离子源需要一个很强的约束磁场和很高的微波频率。2.45GHzECR离子源主要用来产生单电荷态强流正负离子束,它使用2.45GHz的微波加上不大于0.1T的磁场就可以产生超高密度的等离子体。目前2.45GHzECR离子源广泛用于产生强流高功率质子束或氘离子束,上述两种离子束都是正离子束。
由于2.45GHzECR离子源具有体积小、结构简单、维护便利、造价也相对低廉等优点。尽管ECR离子源有以上诸多优点,但因为无法控制等离子体电子温度,难以获得较高的负氢产额,所以实际中只是被广泛用于质子源,为此发明一种可以控制等离子体电子温度,提高负氢产额的ECR负氢离子源。
发明内容
针对所述在现实中难以实现引出量大的ECR负氢离子的问题,旨在提供一种通过利用磁场对带电粒子进行约束的一种ECR负氢离子源。本发明所采用的技术方案是:一种ECR负氢离子源,在离子源的放电室外周设置电磁铁,用扫描电源给电磁铁供电。
所述的电磁铁为交变电磁铁,提供变化的磁场。
本发明所达到的有益效果是:本发明通过简单的结构设计,就能解决目前技术上难以解决的问题,即通过利用扫描电源给电磁铁供电,通过控制电源输出电流的扫描幅度和频率,实现对等离子体电子温度控制,而合适的电子温度下,能够增大负氢离子的碰撞截面,即促进电荷交换,产生更多的负氢离子,实现了高产额的ECR负氢离子源。
附图说明
图1是本发明中ECR负氢离子源的结构示意图。
图2是本发明中扫描电源给电磁铁供电后电磁铁产生的磁场强度波形图。
附图标注说明:1-电磁铁,2-放电室。
具体实施方式
以下通过具体实施例来详细说明本发明的具体实施方式:
如图1-2所示,在离子源的放电室2外周增加设置的电磁铁1以提供磁场,并利用扫描电源给电磁铁供电,并通过控制电源输出电流的扫描幅度和频率,实现电磁铁的电流控制,从而控制放电室内的磁场,实现对等离子体电子温度控制,从而增大负氢离子的碰撞截面,提高负氢离子的产额。
一台离子源的性能根本上是由电离室(放电室)内等离子体的性质决定的,而等离子体的性质与下列因素密切相关:周围的磁场和电场分布;放电室表面状况及伴随所发生的相关效应;放电室内工作气压等;同时离子的产生和消亡是一对紧密联系的过程,在离子源中,总是设法加强电离,产生更多的离子和电子,同时尽可能地避免离子的损失,设法提高离子的寿命,离子损失和消亡的基本过程是荷交交换、复合、扩扩散损失。本发明通过在放电室2外部设置变化的磁场,并利用扫描电源给电磁铁1供电,根据电子回旋频率公式ω
综上所述,本发明的技术方案,通过利用扫描电源给电磁铁供电,通过控制电源输出电流的扫描幅度和频率,实现对等离子体电子温度控制,而合适的电子温度下,能够增大负氢离子的碰撞截面,即促进电荷交换,产生更多的负氢离子,间接上弱化了复合和扩散过程导致离子源消亡的影响,克服了实际生产中,常规的ECR离子源中,只能产生少量的负氢离子,实现了高产额的ECR负氢离子源。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
机译: 使用半导体的负氢或重氢离子源
机译: 使用半导体的负氢或氘离子源
机译: 使用半导体的负氢或重氢离子源