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包含有机铂化合物的化学气相沉积用原料及使用该化学气相沉积用原料的化学气相沉积法

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本发明提供一种化学气相沉积用原料，其用于通过化学气相沉积法制造铂薄膜或铂化合物薄膜，该化学气相沉积用原料包含由下式所示的、环辛二烯及烷基阴离子与2价铂配位的有机铂化合物。在此，R

著录项

公开/公告号CN103874705B

专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-17

原文格式PDF
申请/专利权人田中贵金属工业株式会社;
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申请/专利号CN201280050214.9
发明设计人斋藤昌幸;铃木和治;重富利幸;锅谷俊一;
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申请日2012-10-12
分类号
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人丁业平
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 09:45:19

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-08-17

授权

授权
2014-07-16

实质审查的生效 IPC(主分类):C07F 15/00 申请日:20121012

实质审查的生效
2014-06-18

公开

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机译：包含有机铂化合物的化学气相沉积原料，以及使用该化学气相沉积原料的化学气相沉积方法
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机译：包含有机铂化合物的化学气相沉积原料和使用化学气相沉积原料的化学气相沉积方法

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