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一种离子轰击装置

摘要

本实用新型公开了一种离子轰击装置,包括加热装置,所述加热装置包括若干发热管、第一外壳和真空室,所述真空室为胶囊状结构,所述真空室包括第二外壳、真空泵、温度传感器和镀膜组件,所述发热管与第二外壳抵接,所述真空泵设于真空室顶面,所述真空泵设有出风口和密封盖板,所述密封盖板设有密封胶圈,所述温度传感器设于真空室底面,所述镀膜组件两侧均匀设有若干镀膜夹具,通过设置加热装置可以加快设备在使用时更快速达到最佳温度。

著录项

  • 公开/公告号CN216192647U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东东华光电科技有限公司;

    申请/专利号CN202120981783.1

  • 发明设计人 张大鹏;

    申请日2021-05-08

  • 分类号C23C8/36(20060101);

  • 代理机构44842 广东奥益专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴国文

  • 地址 523000 广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区

  • 入库时间 2022-08-23 05:53:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-05

    授权

    实用新型专利权授予

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