公开/公告号CN215875790U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-02-22
原文格式PDF
申请/专利权人 四川娇点医学美容医院有限公司;
申请/专利号CN202121309153.6
发明设计人 戴桂华;
申请日2021-06-11
分类号A61M5/178(20060101);A61M5/315(20060101);A61M5/31(20060101);
代理机构51322 成都易创经云知识产权代理有限公司;
代理人刘冬静
地址 610000 四川省成都市高新区二环路南三段15号
入库时间 2022-08-23 05:03:01
机译: 用于至少一种基板的气体处理的系统,包括反应室,用于支撑布置在反应室中的一种基板的基板支撑结构,静态气体注入器和至少一个可移动气体注入器
机译: 用于至少一种基板的气体处理的系统,包括反应室,用于支撑布置在反应室中的一种基板的基板支撑结构,静态气体注入器和至少一个可移动气体注入器
机译: 离子注入器,用于离子注入器的磁体的磁极,用于离子注入器的分析器磁体以及改善离子注入器中电荷中和的方法