公开/公告号CN215797296U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-02-11
原文格式PDF
申请/专利权人 济南高盛印刷有限公司;
申请/专利号CN202121936931.4
申请日2021-08-18
分类号B65H7/20(20060101);B65H7/14(20060101);B65H5/02(20060101);
代理机构
代理人
地址 250000 山东省济南市商河县玉皇庙镇民营经济产业园兴源街以北
入库时间 2022-08-23 04:45:32
机译: 生产用于掩膜空白的玻璃基质的方法,用于制造掩膜空白的方法,用于制造转移膜的方法,用于制造半导体器件的方法,用于掩膜空白的玻璃基质,用于掩膜的空白和用于转移膜的基质
机译: 确定电子设备基板的平整度的方法,生产基板的方法,制作空白的方法,制作转移面具的方法,抛光方法,电子设备基板,面具空白,转移面具和抛光剂
机译: 确定电子设备基板的平整度的方法,生产基板的方法,制作空白的方法,制作转移面具的方法,抛光方法,电子设备基板,面具空白,转移面具和抛光剂