一种新型高强度LPCVD气体喷嘴

摘要

本实用新型涉及一种新型高强度LPCVD气体喷嘴，所属半导体晶圆加工设备技术领域，包括分流环管，所述的分流环管上端设有与分流环管相连通的进气总管，所述的分流环管下上端设有若干与分流环管相连通的送气管，所述的送气管前端设有与送气管呈一体化插嵌式连通的喷嘴，所述的喷嘴侧端设有与喷嘴相连通的泄压阀。具有结构简单、运行稳定性好和使用寿命长的特点。解决了炉芯管顶部晶圆成膜均匀性差的问题。