防护薄膜框架及其组件、曝光原版、曝光系统及制造系统

摘要

本实用新型的目的在于提供一种防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光系统、以及半导体或液晶显示板的制造系统，所述防护薄膜框架通过将对于检查光的框架内表面的反射率设置得低，而可尽可能地抑制来自框架的散射光，可提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而框架的着色等的限制少。所述防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，且其中：所述防护薄膜框架的至少内侧面处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下；一种防护薄膜组件，其中：包括所述防护薄膜框架作为结构要素。