首页> 中国专利> 一种辐照装置源架

一种辐照装置源架

摘要

本实用新型涉及辐照设备技术领域,公开了一种辐照装置源架,包括框架,所述框架内设有若干被隔板隔成的栅格,所述栅格中部的上下两个隔板上转动安装有门架轴,所述门架轴的外侧固定连接有门架,所述门架的两侧安装有门扣,所述门架的后端面可拆卸地安装有模块架,所述模块架上设有若干放置所述源棒的钴源安装孔,所述框架的外侧安装有防撞机构,所述防撞机构包括设置在所述框架的左右两侧的防撞立柱,所述防撞立柱的前端面和后端面分别开设有第一凹槽,两个所述第一凹槽内分别滑动连接有防撞板,所述防撞板伸至所述第一凹槽内,所述防撞立柱与所述框架之间设有缓冲机构。本实用新型可以提高源架使用的安全性。

著录项

  • 公开/公告号CN214588062U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中金辐照重庆有限公司;

    申请/专利号CN202120564393.4

  • 发明设计人 黄伟;孙春涛;汤玉山;王建春;

    申请日2021-03-19

  • 分类号G21F5/015(20060101);G21K5/00(20060101);

  • 代理机构50232 重庆启恒腾元专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人万建

  • 地址 401520 重庆市合川区合川工业园区核心片区巴州路

  • 入库时间 2022-08-23 01:27:15

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号