首页> 中国专利> 一种提高陶瓷釉面质量的窑炉

一种提高陶瓷釉面质量的窑炉

摘要

本实用新型涉及陶瓷窑炉领域,一种提高陶瓷釉面质量的窑炉,包括窑体,所述窑体搭配有供热设备,所述窑体两侧设有窑门,所述窑体顶部均匀设置多个散热口,所述散热口贯穿所述窑体,所述散热口顶部具有锥形结构的开口,其顶部孔径大于其底部孔径,所述开口上方设有可开合的盖体,所述盖体底部设有密封层和隔热层。本实用新型的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉,有助于解决现有结构冷却速度不均,成品率低的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN214308169U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 泉州市绿色低碳研究院;

    申请/专利号CN202120340559.4

  • 发明设计人 卢怡锋;王振泉;梁晓冬;

    申请日2021-02-06

  • 分类号F27B17/00(20060101);F27D9/00(20060101);

  • 代理机构35241 泉州市众创致远专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人汪彩凤

  • 地址 362000 福建省泉州市鲤城区1916创意产业园32号楼2层

  • 入库时间 2022-08-23 00:42:30

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号