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一种多结砷化镓太阳电池一次腐蚀工艺方法

摘要

本发明属于新能源以及空间电源领域,涉及一种多结砷化镓太阳电池一次腐蚀工艺方法,可利用单一腐蚀液一次腐蚀制备隔离槽及划片槽。该发明公开了一种隔离槽/划片槽一次腐蚀制备工艺,包含了光刻胶保护工艺、一次腐蚀工艺,其中隔离槽腐蚀是制备集成旁路二极管的关键工序。其特征在于:该工艺通过光刻胶掩蔽工艺制备图形,通过单一腐蚀液一次腐蚀至衬底层;一次腐蚀可同时腐蚀正面外延层及背面衬底材料;一次腐蚀可同时制得隔离槽及划片槽;通过一次腐蚀、电极蒸镀、合金等工序制得的旁路二极管可保护太阳电池免受“热斑”等空间损害;通过一次腐蚀制得划片槽,直接切割划片槽可避免边缘机械损伤,影响电池电性能。

著录项

  • 公开/公告号CN104393115B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海空间电源研究所;

    申请/专利号CN201410655829.5

  • 申请日2014-11-18

  • 分类号H01L31/18(20060101);

  • 代理机构31107 上海航天局专利中心;

  • 代理人金家山

  • 地址 200245 上海市闵行区东川路2965号

  • 入库时间 2022-08-23 09:44:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-07-27

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/18 申请日:20141118

    实质审查的生效

  • 2015-03-04

    公开

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