一种基于旋转双光楔的像方扫描光学系统

摘要

本实用新型涉及一种基于旋转双光楔的像方扫描光学系统，用于解决现有技术的扫描机构体积偏大，难以实现高精度、快速扫描的缺陷。本实用新型包括沿光路依次设置的望远光学系统、旋转双光楔扫描机构以及成像光学系统；其中旋转双光楔扫描机构包括结构相同的第一光楔和第二光楔，第一光楔和第二光楔能够通过旋转实现视场扫描。第一光楔和第二光楔能够独立旋转，用于选取不同视场。本实用新型适用于红外制导系统。