公开/公告号CN214151144U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-09-07
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉戴美激光科技有限公司;
申请/专利号CN202023341150.9
申请日2020-12-30
分类号G02B6/42(20060101);H01S3/00(20060101);
代理机构11570 北京众达德权知识产权代理有限公司;
代理人詹守琴
地址 430000 湖北省武汉市东湖开发区汤逊湖北路武汉长城创新科技园1栋311、313、315室
入库时间 2022-08-23 00:13:03
机译: 一种高功率半导体激光阵列装置,其输出在波长和相位上匹配的激光,其制造方法以及使用这种高功率半导体激光阵列装置的多波长激光发射装置
机译: 用于文件识别标记的光学识别装置-使用来自通过光纤连接的光电探测器的光反射和微处理器分析的输出以消除变化误差
机译: 产生一种用于稳定激光输出脉冲的激光输出脉冲的方法和装置