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一种高致密性压铸件浸渗装置

摘要

本实用新型公开了一种高致密性压铸件浸渗装置,包括浸渗罐体,所述浸渗罐体的内部设有浸渗腔、所述浸渗腔的顶部设有用于调节浸渗腔内部气压的调压结构,以及设置在浸渗腔内部用于填充压铸件表面气孔缝隙的浸渗结构。本实用新型通过设置密封座将浸渗腔盖体和浸渗腔壁之间的缝隙进行填充,避免外部空气进入,将浸渗腔封闭为独立空间,整个浸渗过程致密性仅在浸渗腔中即可进行,避免外部气体的参与保证整个浸渗过程具有较高的致密性,采用喷射面填充方式每次使用的填充液用量少并且都是全新填充液无残留,保证浸渗质量。

著录项

  • 公开/公告号CN214079209U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东铭利达科技有限公司;

    申请/专利号CN202022278846.5

  • 发明设计人 陶诚;张贤明;

    申请日2020-10-13

  • 分类号B22D31/00(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐丽

  • 地址 523662 广东省东莞市清溪镇罗马先威西路5号1号楼101室

  • 入库时间 2022-08-23 00:06:42

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