一种应用于高光修复的弹性抛光片

摘要

本实用新型公开了一种应用于高光修复的弹性抛光片，包括抛光片采用三层结构，包括位于最上层的磨光布层、位于中间层的EVA缓冲层以及位于最下层的绒布层，磨光布层采用纺织布，磨光布层内含浸有纳米磨料，EVA缓冲层具有弹性，本实用新型适用于抛光片，该抛光片采用三层薄片结构，最上层为磨光布层，其内含浸有纳米磨料，使用该抛光片可以对材料的表面进行纳米级的抛光，达到光洁的镜面，而该抛光片的中间层采用EVA缓冲层，其具有优异的回弹性，从而当抛光片安装于打磨头上进行打磨时，可以和待抛光件形成良好的接触效果，同时可以保证该抛光片的使用寿命。