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一种克服空间位置效应的剥蚀装置

摘要

本实用新型提供了一种克服空间位置效应的剥蚀装置,包括样品台、激光头以及剥蚀池,剥蚀池通过连接杆固定于激光头的正下方,剥蚀池为中空的结构,剥蚀池顶部开口处密封安装有供激光穿过的透明窗,其内部腔室由隔环分为内外两层,内层为剥蚀腔,外层为真空腔,剥蚀腔的两侧分别设置有进气管和出气管,真空腔的侧壁上设置有抽真空口并与真空发生器相连接;所述样品台安装于三轴位移平台上,样品台顶面为平整光滑的平面,顶面上分布有用于放置靶样的凹槽。该剥蚀装置利用真空实现对剥蚀池的密封,能够保证剥蚀池整体的密封性;最重要的是,该多靶位剥蚀装置能够克服激光微区原位测试中空间位置效应。

著录项

  • 公开/公告号CN213163650U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉上谱分析科技有限责任公司;

    申请/专利号CN202021578444.0

  • 发明设计人 高伟;黄运泽;刘峥;孔嘉康;刘婷;

    申请日2020-08-03

  • 分类号B23K26/362(20140101);B23K26/08(20140101);B23K26/70(20140101);G01N21/73(20060101);

  • 代理机构42265 武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘天钰

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区北斗路6号武汉国家地球空间信息产业化基地(新区)一期1.1期A11栋2层01室

  • 入库时间 2022-08-22 21:28:09

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