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一种大通流低钳位的瞬态电压抑制器结构

摘要

本实用新型公开了一种大通流低钳位的瞬态电压抑制器结构,包括N型衬底,N型衬底下设有第一金属层,N型衬底上设有P型外延,P型外延内扩有两个N型阱,N型阱从P型外延的顶部沿伸至P型外延的底部,并与N型衬底相连,P型外延内扩有P型第一阱区和位于P型第一阱区上面的P型第二阱区,在P型外延上覆盖有氧化层,氧化层上设有第二金属层,第二金属层通过接触孔与P型第二阱区相连。本实用新型通过N型衬底、P型第一阱区和P型第二阱区,实现了整个环路上的二极管布局,增加了瞬态电压抑制器的峰值电流IPP流通能力,当用在电流较小的电路中时,无需额外串联限流元件,使用成本更低。

著录项

  • 公开/公告号CN212517202U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海维攀微电子有限公司;

    申请/专利号CN202021306987.7

  • 发明设计人 周伟伟;欧阳炜霞;

    申请日2020-07-02

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L27/08(20060101);H01L29/861(20060101);

  • 代理机构31306 上海愉腾专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人谢小军

  • 地址 201612 上海市松江区漕河泾开发区松江高科技园莘砖公路258号33幢803室

  • 入库时间 2022-08-22 19:37:48

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