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一种射流抛光中形成高斯型去除函数的装置

摘要

本实用新型公开了一种射流抛光中形成高斯型去除函数的装置,属于光学制造技术领域,包括本体,本体包括旋转轴,旋转轴下端沿轴线方向上设置有标准锥,标准锥至少有一侧倾斜设置有喷嘴,旋转轴中心设置有用于流通抛光液的入流通道,入流通道下端与喷嘴连通,抛光液在喷嘴末端形成有射流束,射流束与旋转轴线的交点应位于工件表面上方,且交点且离工件表面的距离0‑1000μm,采用斜入射旋转扫略的方式来产生高斯型去除函数,通过在旋转轴、标准锥、喷嘴和测头,调整喷嘴距离工件表面的高度,可以在材料表面形成具有一定的高斯曲线,并且可以对抛光液进行收集,并且通过供液泵进行回收利用,提高资源利用效率。

著录项

  • 公开/公告号CN212497264U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202020933981.6

  • 申请日2020-05-28

  • 分类号B24C1/08(20060101);B24C9/00(20060101);B24C5/04(20060101);

  • 代理机构51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张超

  • 地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号

  • 入库时间 2022-08-22 19:36:00

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