公开/公告号CN211509402U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-09-15
原文格式PDF
申请/专利权人 核工业西南物理研究院;
申请/专利号CN201921783396.6
申请日2019-10-22
分类号H05H1/46(20060101);H05H1/02(20060101);
代理机构11007 核工业专利中心;
代理人高安娜
地址 610041 四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
入库时间 2022-08-22 16:41:53
机译: 一种具有低反射率,高透射率和优异耐刮擦性的抗反射膜的抗反射涂料组合物,一种抗反射膜及其制造方法
机译: 主动杂波声波检测方法及主动杂波声波检测装置
机译: 高饱和电流和低漏电流费米延迟场效应晶体管(高饱和电流,低漏电流费米阈值场效应晶体管)