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基于方孔辅助电子动态调控晶硅表面周期性微纳结构方法

摘要

本发明涉及一种基于方孔辅助电子动态调控晶硅表面周期性微纳结构方法,属于飞秒激光应用技术领域。本发明方法基于局部瞬时电子激发动态调控,利用飞秒激光线偏振经物镜聚焦后通过方孔铜网聚焦于材料表面实现不同表面周期性微纳结构的多种精确控制:通过控制激光扫描速度及脉冲能量的大小,实现条状表面波纹结构及多点阵列微纳结构的烧蚀加工;控制激光偏振方向与方孔边缘方向(x轴)的相对位置可实现周期性微纳结构方向的控制;通过有效调节线偏振激光方向与方孔边缘方向(x轴)夹角,实现晶硅表面周期性微纳结构的选择性烧蚀加工。对比现有方法,本发明有效提高了表面处理的加工精度及加工效率,实现高效精确的表面周期性微纳结构形态的调控。

著录项

  • 公开/公告号CN104625416B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201410848351.8

  • 发明设计人 姜澜;韩伟娜;李晓炜;

    申请日2014-12-29

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号北京理工大学

  • 入库时间 2022-08-23 09:42:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-22

    授权

    授权

  • 2015-06-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 26/352 申请日:20141229

    实质审查的生效

  • 2015-05-20

    公开

    公开

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