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一种紫外线曝光机用氮气幕

摘要

本实用新型提供一种紫外线曝光机用氮气幕,包括氮气幕壳体、底座、气道、出气孔、连接块和围挡边,氮气幕壳体呈圆弧形并固定安装在底座上,氮气幕壳体内设置有出气孔,氮气幕壳体内部设置有连接气源与出气孔的气道,氮气幕壳体外径圈上设置有连接块,氮气幕壳体靠近凸起一侧的外圆周上设置有围挡边,氮气幕壳体表面涂布有特氟龙,材质采用陶瓷。本实用新型通过氮气幕的机构完善了氮气对产品的保护,有效的防止了因为紫外线照射使空气中的氧气和水蒸气发生反应,造成紫外线的减弱从而导致的胶膜粘性过高产生的品质隐患。

著录项

  • 公开/公告号CN209118056U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海太半导体(无锡)有限公司;

    申请/专利号CN201821900348.6

  • 发明设计人 朱文龙;

    申请日2018-11-16

  • 分类号

  • 代理机构无锡市朗高知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵华

  • 地址 214000 江苏省无锡市新区出口加工区K5、K6地块

  • 入库时间 2022-08-22 09:52:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-16

    授权

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