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一种应用于晶格失配多结太阳能电池的新型DBR结构

摘要

本实用新型公开了一种应用于晶格失配多结太阳能电池的新型DBR结构,为叠置于晶格渐变缓冲层之上的GaInNAs/AlGaInAs周期结构,GaInAs子电池叠置于该GaInNAs/AlGaInAs周期结构之上,GaInNAs/AlGaInAs周期结构的GaInNAs折射率较AlGaInAs折射率高,且GaInNAs与AlGaInAs之间及GaInNAs与GaInAs子电池的基区材料GaInAs之间存在晶格失配,失配度不超过3%,这种应变补偿结构有助于应力的释放和位错滑移。本实用新型可以降低失配引入的外延层中的缺陷密度,提高材料质量,可以提升GaInAs子电池抗辐照性能,增加电池的整体短路电流、开路电压、填充因子等技术指标,提高电池整体光电转换效率。

著录项

  • 公开/公告号CN209045576U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中山德华芯片技术有限公司;

    申请/专利号CN201821861341.8

  • 申请日2018-11-13

  • 分类号

  • 代理机构广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人冯炳辉

  • 地址 528437 广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层

  • 入库时间 2022-08-22 09:40:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-28

    授权

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