公开/公告号CN208961228U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-06-11
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市东赢激光设备有限公司;
申请/专利号CN201821471173.1
申请日2018-09-06
分类号
代理机构深圳市中科创为专利代理有限公司;
代理人彭西洋
地址 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道广深公路东侧西部开发区三力工业园厂房4栋一层A侧
入库时间 2022-08-22 09:26:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-11
授权
授权
机译: 抑制掺b光纤中光暗化的处理方法,抑制掺Y光纤中的光暗化和光纤激光
机译: 液晶显示装置中亮点缺陷的暗化方法和暗化装置
机译: 一种利用FAC工艺制造低温多晶硅硅TFT-LCD阵列基板的方法,特别是在结晶化和最小化结晶化缺陷后降低金属杂质的方法