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公开/公告号CN208857361U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-05-14
原文格式PDF
申请/专利权人 江阴市天马电源制造有限公司;
申请/专利号CN201821285895.8
发明设计人 唐浩;周芳;薛辰斌;许铃;黄佳锋;徐锋;
申请日2018-08-09
分类号
代理机构北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人王新爱
地址 214406 江苏省无锡市江阴市霞客镇璜塘工业园区内海路6号
入库时间 2022-08-22 09:09:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-14
授权
机译: 用于原子层沉积化学气相沉积CVDAND / CVD沉积的ALD CVD ALD / CVD前体化合物使用相同
机译: 用于原子层沉积的ALD CVD ALD / CVD前体化合物ALD化学气相沉积CVD和使用相同的ALD / CVD沉积
机译:微波加热化学气相沉积(CVD)沉积TiB2的行为
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机译:用于低成本太阳能电池应用的薄膜沉积的激光加热CVD(化学气相沉积)工艺:最终转包报告,1984年2月1日至1987年2月28日