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公开/公告号CN207345257U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-05-11
原文格式PDF
申请/专利权人 章兴维;
申请/专利号CN201721388921.5
发明设计人 章兴维;
申请日2017-10-26
分类号
代理机构北京久维律师事务所;
代理人邢江峰
地址 510450 广东省广州市白云区江高镇何埗村广东技术学院白云校区
入库时间 2022-08-22 04:55:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B41F23/00 授权公告日:20180511 终止日期:20181026 申请日:20171026
专利权的终止
2018-05-11
授权
机译: 用于将管状吹塑薄膜扭曲和展平的装置-具有共同旋转的转向体和固定卷绕装置的展平辊
机译: 展平设备的纺丝装置以及适于与所述设备配合的展平设备
机译: 三维边界层电流的流动表面,特别是在展平的机翼,展平的栅格或转子上
机译:下一代Gu / Low-k展平解决方案基于统一展平理论的65nm及以后的展平技术
机译:用于热电冷却装置的刷印P型Bi0.5SB1.5S3厚膜的制造与表征
机译:购气:威猛(Vermeer)在其刷削机生产线中增加了最大的汽油动力装置
机译:提取膀胱壁的内边界和外边界并将展平的壁展平以用于MR膀胱造影
机译:TrueBeam系统的展平光束和不展平过滤器光束的剂量和生物学特性。
机译:纳米增强放射治疗中无展平滤波器和展平滤波器光子束的剂量增强:蒙特卡洛幻影研究
机译:印楝(azadirachta indica a. Juss(meliaceae))水溶液和油性提取物对膨胀青霉(penicillium expansum)苹果中展青霉素产量的影响印楝水溶液和油性提取物对展青霉素生产的影响被青霉菌(penicillium expansum)污染的苹果
机译:惯性摩擦焊接工艺效率及其对工艺参数的依赖性(后印刷)。