法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):E21B27/00 授权公告日:20180420 终止日期:20181018 申请日:20171018
专利权的终止
2018-04-20
授权
授权
机译: 用于清洗图像传感器包装的透明层的清洗装置
机译: 使用提供电弧放电装置的蒸发装置,该电弧放电装置用于具有金属Cr的超硬基体表面轰击清洗,该溅射装置用于润滑地毯层
机译: 形成杂质导入层的方法,用于清洗被处理物的方法,用于导入杂质的装置以及制造装置的方法