法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-24
避免重复授予专利权 IPC(主分类):B25B11/02 授权公告日:20170426 放弃生效日:20180713 申请日:20160923
避免重复授权放弃专利权
2017-04-26
授权
授权
机译: 一种用于生产光学辅助用药的基质的设备,一种用于光学辅助用药的基质的制造方法,利用它们的方法,一种用于制造光学辅助用药的介质以及一种用于制造光学辅助剂的方法,利用它们。
机译: 用于加工至少一种表面成分的生产线以及用于在该生产线上加工至少一种表面成分的方法
机译: 用于加工至少一种表面成分的生产线以及用于在该生产线上加工至少一种表面成分的方法