法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F04C28/28 授权公告日:20161019 终止日期:20190429 申请日:20160429
专利权的终止
2016-10-19
授权
授权
机译: 在集成电路的生产中使用的半色调相位掩模包括:半色调区域,其具有大大降低的透射率,并且基于对光透明的相邻第二区域,具有相位旋转特性。
机译: 减少旋转式压缩机泄漏的方法和具有减少泄漏的旋转压缩机
机译: 轴旋转速率的频闪法及其实现的频闪计速器