首页> 中国专利> 一种真空场发射晶体管框架

一种真空场发射晶体管框架

摘要

本实用新型公开一种真空场发射晶体管框架,包括架体,架体内设有引线框部件,引线框部件在架体内呈矩阵排列,相邻两个引线框部件之间通过连接部进行连接,引线框部件包括两个结构相同的引线框子部件,每个引线框子部件的载片区上均设有与晶体管引脚相匹配的引线,晶体管通过塑封胶固定于引线框子部件的载片区上,引线框部件内的两个引线框子部件之间设有条形部件,四个引线框部件结合处设有十字部件。相对现有技术,本实用新型密度较高,框架利用率高,降低了成本,生产工序更加简单,空间利用率高。

著录项

  • 公开/公告号CN205231048U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宁波东盛集成电路元件有限公司;

    申请/专利号CN201520996378.1

  • 申请日2015-12-04

  • 分类号

  • 代理机构杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人杜军

  • 地址 315800 浙江省宁波市北仑区大港三路51号

  • 入库时间 2022-08-22 01:21:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L23/495 授权公告日:20160511 终止日期:20181204 申请日:20151204

    专利权的终止

  • 2016-05-11

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号