公开/公告号CN205193219U
专利类型实用新型
公开/公告日2016-04-27
原文格式PDF
申请/专利权人 上海莫克电子技术有限公司;
申请/专利号CN201521001874.5
申请日2015-12-04
分类号
代理机构上海光华专利事务所;
代理人罗泳文
地址 200126 上海市浦东新区德州路60弄1号604
入库时间 2022-08-22 01:19:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-27
授权
授权
机译: 用于转移微阵列图案的装置,一种制造装置的方法,一种用于利用超声波波形成非接触式微阵列图案的系统以及一种用于形成非接触式微阵列图案的方法
机译: 一种非接触式高压检测装置
机译: 一种与超声换能器接触的方法;具有接触式超声换能器的超声换能器组件,用于超声测试头;超声波测试头和用于通过超声波对被测部件进行非破坏性测试的装置。