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一种基于双层截止圆波导阵列金属网/膜的电磁屏蔽结构

摘要

本实用新型公开了一种基于双层截止圆波导阵列金属网/膜的电磁屏蔽结构,包括:截止圆波导单元和截止圆波导阵列金属结构;其中,所述截止圆波导阵列金属结构由第一截止圆波导阵列金属网和第二截止圆波导阵列金属网组成,或由第一截止圆波导阵列金属网和金属膜组成;所述截止圆波导单元设置在所述第一截止圆波导阵列金属网和所述第二截止圆波导阵列金属网上;所述第一截止圆波导阵列金属网和所述第二截止圆波导阵列金属网上的所述截止圆波导单元同位或错位排列。本实用新型当高功率微波照射时,基于双层截止圆波导阵列金属网/膜的电磁屏蔽结构可对入射功率进行大幅度衰减。本实用新型具有成本低、重量轻、频带宽、屏蔽效能高等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN204994220U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华东师范大学;

    申请/专利号CN201520580547.3

  • 发明设计人 廖斌;金开涛;

    申请日2015-08-05

  • 分类号

  • 代理机构上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人董红曼

  • 地址 200062 上海市普陀区中山北路3663号

  • 入库时间 2022-08-22 01:07:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05K9/00 授权公告日:20160120 终止日期:20160805 申请日:20150805

    专利权的终止

  • 2016-01-20

    授权

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