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公开/公告号CN204198841U
专利类型实用新型
公开/公告日2015-03-11
原文格式PDF
申请/专利权人 慕恩慈沃迪;
申请/专利号CN201420487397.7
发明设计人 慕恩慈沃迪;
申请日2014-08-27
分类号
代理机构苏州广正知识产权代理有限公司;
代理人刘述生
地址 江苏省苏州市干将东路178号苏州自主创新广场1号楼414
入库时间 2022-08-22 00:30:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-10-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C14/22 授权公告日:20150311 终止日期:20160827 申请日:20140827
专利权的终止
2015-03-11
授权
机译: PVD-一种制备彩色的方法,该方法针对物体上的指纹不敏感涂层以及具有此类涂层的物体
机译: -超硬WC-CrN超晶格涂层设备及其制造方法
机译: 制备超硬涂层磨料的方法
机译:高粘附的超硬和低摩擦C-DLC涂层的工业规模沉积HIPIMS和阳极辅助不平衡磁控溅射
机译:低频Hipims沉积硬CR掺杂DLC涂层的焦点机械性能
机译:阳性脉冲对硬DLC涂层Hipims沉积的影响
机译:微悬臂梁和柱分裂试验测定ARC-PVD和HIPIMS(Al,Tl)N硬涂层的断裂韧性
机译:PVD辅助超硬涂层的微机械和结构研究。
机译:在DLC涂层的HiPIMS沉积过程中减轻微电弧的策略
机译:PVD-HIPIMS沉积的CrN / NbN超晶格涂层的基体光洁度和铌含量对蒸汽气氛中耐高温腐蚀的影响
机译:超硬涂层的摩擦学特性和应用:CVD金刚石,DLC和c-BN