法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H02K19/38 授权公告日:20150218 终止日期:20190903 申请日:20140903
专利权的终止
2015-02-18
授权
授权
机译: 汽相沉积面膜,装有框架的汽相沉积面膜,汽相沉积面膜制备体,汽相沉积图案形成方法,有机半导体元素的制备方法以及有机EL显示器的制备方法
机译: 汽相有机物的汽相沉积方法及汽相有机物的汽相沉积系统
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