法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-05-18
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/59 申请日:20120925
实质审查的生效
2014-03-26
公开
公开
机译: 用于通过红外线辐射对微电子基板进行热处理的快速热处理装置,包括布置在冷壁反应室中的冷壁红外卤素灯。
机译: 快速静电快门和使用快速快门在红外视频成像仪中实现偏移补偿的方法
机译: 快速静电快门和使用快速快门在红外视频成像仪中实现偏移补偿的方法