一种用于制作凹面闪耀光栅的基材结构及一种便于制作的凹面闪耀光栅

摘要

本申请涉及凹面闪耀光栅制作技术领域，特别涉及一种用于制作凹面闪耀光栅的基材结构及一种便于制作的凹面闪耀光栅，利用该基材结构，制作凹面闪耀光栅时先在凹面光栅基底上黏贴软膜并在其上涂覆成型光刻胶光栅层，然后再将软膜剥离凹面光栅基底并黏贴至平面基底上，以光刻胶光栅层为掩模将软膜蚀刻为软膜光栅，由于其蚀刻的掩模是在凹形光栅基底上显影成型的，因此其最终的光栅结构能够精准的匹配凹形光栅基底，另一方面，由于去光栅结构是在平面基底上进行离子束蚀刻的，其不会受到凹形光栅基底的影响，能够有效降低其制造难度并提高制造精度。