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磁流变液回转内表面抛光系统

摘要

本实用新型公开了一种磁流变液回转内表面抛光系统,其主要由数控系统、抛光工件、心轴、磁场发生装置和抛光池组成。抛光池中装入适量混有磨料的磁流变液,抛光工件固定在抛光池中,心轴放置于抛光工件回转内表面中,且保证其轴心线与抛光工件回转内表面轴心线重合。当系统工作时,首先打开磁场发生装置,根据程序指令调节回转内表面母线各点磁场力,保证母线各点磨削量大小一致;打开数控主轴,带动心轴转动,使得混有磨料的磁流变液形成的柔性磨头与抛光工件回转内表面发生相对运动,从而对回转内表面进行抛光直至达到要求的抛光精度。本实用新型公开的磁流变液回转内表面抛光系统通过调节回转内表面母线各点磁场力的大小从而保证回转内表面各母线各点磨削量大小一致,使得加工后的工件内孔粗糙度小且表面均匀度高,加工效率高。

著录项

  • 公开/公告号CN203557222U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 四川大学;

    申请/专利号CN201320748439.3

  • 申请日2013-11-25

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610065 四川省成都市武侯区一环路南一段24号

  • 入库时间 2022-08-22 00:05:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-12

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B1/00 授权公告日:20140423 终止日期:20161125 申请日:20131125

    专利权的终止

  • 2014-04-23

    授权

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