法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-20
避免重复授予专利权 IPC(主分类):G01B11/03 授权公告日:20140402 放弃生效日:20160420 申请日:20130813
避免重复授权放弃专利权
2014-04-02
授权
授权
机译: 用局部二阶导数测量光学型自由曲面的形状的方法和用相同的方法测量曲面的形状的系统
机译: 基于共焦光学系统的测量装置以及制造基于共焦光学系统的测量装置的方法
机译: 基于银增强荧光的曲面自由曲面测量装置及其测量方法