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一种连续高通量去除氟离子微流磁控器件

摘要

本实用新型涉及一种连续高通量去除氟离子微流磁控器件,包括置有注射器的单通道微量注射泵、刻有微流控通道的树脂基微芯片,所述树脂基微芯片置于磁场环境中,所述注射器的输出端与流体输送通道的一端相连,流体输送通道的另一端与树脂基微芯片上的微流控通道的入口相连,所述微流控通道的出口与流体接收通道的一端相连,流体接收通道的另一端与流体接收器相连。本实用新型能够实现对F离子的连续、快速、高通量去除。

著录项

  • 公开/公告号CN203227326U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东华大学;

    申请/专利号CN201320158347.X

  • 发明设计人 王刚;王宏志;赵德;

    申请日2013-04-01

  • 分类号

  • 代理机构上海泰能知识产权代理事务所;

  • 代理人宋缨

  • 地址 201620 上海市松江区松江新城人民北路2999号

  • 入库时间 2022-08-21 23:55:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01D15/08 授权公告日:20131009 终止日期:20160401 申请日:20130401

    专利权的终止

  • 2013-10-09

    授权

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