法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-05-20
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H7/18 授权公告日:20121128 终止日期:20140328 申请日:20120328
专利权的终止
2012-11-28
授权
授权
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 扫描电子束装置。尤其是电子束测试设备或扫描电子显微镜-具有用于静电镜形式的二次电子束的偏转器,并使用光谱仪检测二次束