法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-13
避免重复授予专利权 IPC(主分类):H04N5/74 授权公告日:20121114 放弃生效日:20180213 申请日:20111228
避免重复授权放弃专利权
2012-11-14
授权
授权
机译: 投影开口矫正线和具有该构造的投影开口矫正系统
机译: 影响光学元件中的温度分布的方法,光学矫正装置和包括光学矫正装置的投影曝光装置
机译: 图像矫正装置,倾斜矫正装置,图像矫正装置控制方法,倾斜矫正装置控制方法