法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-05-22
避免重复授权放弃专利权 IPC(主分类):B61D17/00 授权公告日:20111207 放弃生效日:20130522 申请日:20110323
避免重复授权放弃专利权
2011-12-07
授权
授权
机译: 生产用于表面微织构的面膜的系统和方法,以及表面微织构厂和方法
机译: 生产用于表面微织构的光学掩模的系统和方法,以及表面微织构的植物和方法
机译: 生产用于表面微织构的光学掩模的系统和方法,以及表面微织构的植物和方法