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一种具有高控制精度的中阶梯光栅刻划机控制装置

摘要

本实用新型公开了一种具有高控制精度的中阶梯光栅刻划机控制装置,包括上位机、可编程控制器、伺服控制系统和温度控制系统,以可编程控制器为核心构成的双反馈闭环控制系统,及电加热板的使用,使工作台处于合适的温度环境下工作,提高了中阶梯光栅刻划机的控制精度,减少刻划误差,便于调整,操作方便,能很好的满足常用中阶梯光栅的刻划。

著录项

  • 公开/公告号CN202003192U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2011-10-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海理工大学;

    申请/专利号CN201020666988.2

  • 申请日2010-12-16

  • 分类号

  • 代理机构上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人王敏杰

  • 地址 200093 上海市军工路516号

  • 入库时间 2022-08-21 23:23:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B19/18 授权公告日:20111005 终止日期:20161216 申请日:20101216

    专利权的终止

  • 2011-10-05

    授权

    授权

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