法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-03
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B29C59/14 授权公告日:20110427 终止日期:20131009 申请日:20101009
专利权的终止
2011-04-27
授权
授权
机译: 一种使用低压等离子体处理容器的设备,该低压等离子体包括改进的真空电路
机译: 用于通过低压等离子体对组件进行表面处理的设备-低压容器被进行处理的组件密封
机译: 用低压等离子体部分处理部件表面的装置包括辉光后系统头,其通过形成低压等离子体反应器的柔性进料管线与真空室相连